研究施設

超高温・超高真空加熱炉:KGX2000

難加工材料 (高硬度、高耐熱性、高耐薬品性) の加工を可能とする、オールメタル製 “超高温” “超高真空” 加熱炉 (2000℃、10⁻⁷ Pa)

 

超高温・高真空加熱炉:KG2000

2000℃を超える超高温での"カーボンフリー"プロセスを実現するKGX-2000のプロトタイプ. 我が研究室の裏番長的存在. (背圧:10-5Pa~90kPa, 到達温度:2000℃)

超高真空MBE装置:Compact21T

10-10 mオーダーの膜厚制御を実現可能. 電子線リソグラフィとの組み合わせにより数百ナノメートル程度の超高密度・微細周期構造の作製が可能

半導体電子物性測定装置

半導体の抵抗率・キャリアタイプ・濃度・移動度の温度依存性、深い準位の濃度・エネルギー深さ・捕獲断面積などを測定する装置

パワー半導体デバイス計測システム

電動化・電力回生で、電車、電動車から産業機器まで、電気を使う全機器で活躍するパワー半導体。今、ワイドギャップ半導体が応用されつつあり、21世紀の省エネの大きな部分を担う技術として、注目されています。